Компания Henan Harmony Industry Diamond Co., Ltd. (H.I.D.)
В упаковке для полупроводников керамическая подложка представляет собой специальную технологическую пластину, в которой медная фольга непосредственно приклеивается к поверхности керамической подложки (односторонняя или двусторонняя) при высокой температуре. Основные типы включают оксид бериллия (BeO), оксид алюминия (Al2O3) и нитрид алюминия (AlN), нитрид кремния (Si3N4).
В упаковке для полупроводников керамическая подложка представляет собой специальную технологическую пластину, в которой медная фольга непосредственно приклеивается к поверхности керамической подложки (односторонняя или двусторонняя) при высокой температуре. Основные типы включают оксид бериллия (BeO), оксид алюминия (Al2O3) и нитрид алюминия (AlN), нитрид кремния (Si3N4).
В полупроводниковой упаковке керамическая подложка представляет собой специальную технологическую пластину, в которой медная фольга непосредственно приклеивается к поверхности керамической подложки (односторонняя или двусторонняя) при высокой температуре. Основные типы включают оксид бериллия (BeO), оксид алюминия (Al2O3) и нитрид алюминия (AlN), нитрид кремния (Si3N4).
1. Сильное механическое воздействие и стабильная форма;
2. Отличные характеристики термического цикла, время цикла до 550 000 циклов, высокая надежность;
3. То же самое с печатной платой ((или подложкой IMS)) можно вытравливать из различных графических структур;
4. Отсутствие загрязнения окружающей среды;
5. Широкий диапазон температур -55℃~850℃;
6.Коэффициент теплового расширения близок к кремниевому, что упрощает процесс производства силового модуля.